前言：近日，NANO-MASTER工程师至浙江中宁硅业有限公司，顺利安装验收NPE-3500型PECVD等离子体化学气相沉积设备！
近日，NANO-MASTER工程师至浙江中宁硅业有限公司，顺利安装验收NPE-3500型PECVD等离子体化学气相沉积设备！
NANO-MASTER的PECVD系统能够沉积高质量的SiO2、Si3N4、CNT、DLC和SiC等薄膜。可应用于等离子诱导表面改性、等离子清洗、等离子聚合等。根据不同应用，可选用RF、HCP、ICP或MW微波等多种规格的离子源。标准样品台尺寸有6”和8”可选，zui高可定制到16”或者其他更大的尺寸，样品台可提供RF、Pulse DC或DC偏压。样品台可提供电阻加热或红外灯加热。
系统标配涡轮分子泵和机械泵，极限真空到5*10-7Torr，腔体压力调节通过PC自动控制涡轮速度而全自动调节，快速稳定。
工艺过程通过触摸监控屏幕和Labview软件，可实现全自动的PC控制，具有高度的可重复性。系统具有完整的安全联锁，提供四级密码授权访问保护。能直接研发和量产应用。
NANO-MASTER的PECVD等离子体化学气相沉积选配项
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