NIE-3500（A）全自动IBE离子束刻蚀产品概述：该系统为全自动上下载片，并且通过计算机全自动实现工艺控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。该系统所配套的所有核心组件均为。
该IBE离子束刻蚀系统具有很强的适应性，可根据不同的应用而按不同的配置进行建构。多样的样片夹具和离子源配置可支持用户不同的应用。用于离子铣系统的样片夹具可以支持±90°倾斜、旋转、水冷和背氦冷却。
我们的IBE离子束刻蚀系统可以把基片温度保持在50°C以内的能力。通过倾斜和旋转，可以刻蚀出带斜坡的槽，并且改善了对侧壁轮廓和径向均匀度的控制。不同的选配项可以用于不同的网格配置以及中和器。溅射选配项可以支持对新刻蚀金属表面的涂覆，以防氧化。此外，还可以选配单晶圆自动上下片功能。该系列IBM离子铣系统或IBE离子束刻蚀系统可以配置RF ICP离子源，升级为RIBE反应离子束刻蚀系统。
NIE-3500（A）全自动IBE离子束刻蚀产品特点：
低成本
带预真空锁，自动上下载片
离子束：高达2KV/10mA
离子电流密度100-360uA/cm2
离子束直径：4",5",6"
兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)
极限真空5x10-7Torr
260l/s涡轮分子泵，串接500 l/min干泵
14"不锈钢或铝质腔体
水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)
自动上下载片（NIE-3500）
基于LabView软件的PC计算机全自动控制
占地面积30"x30"
NIE-3500（A）全自动IBE离子束刻蚀设备应用：
表面处理
离子铣
表面清洗
带活性气体的离子束刻蚀： 光栅刻蚀，以及SiO2，Si和金属的深槽刻蚀
我公司主要经营各类真空镀膜微纳加工设备，包括薄膜沉积、刻蚀及清洗去胶设备等（ALD，PECVD，RIE，磁控溅射，热蒸镀，电子束，离子束，热真空试验，晶圆清洗机，PA-MOCVD）