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KORE MS-200 便携式飞行时间质谱仪

KORE MS-200 便携式飞行时间质谱仪

价格：电议
质量范围：1–1000 m/z 质量分辨率：>200 m/δm (FWHM) 灵敏度：苯检测限度<5ppb在10s内 (膜进样)
MS 200便携式飞行时间质谱仪是KORE最畅销的质谱仪 一
高质量分辨率飞行时间质谱仪 HR EI-TOF-MS

高质量分辨率飞行时间质谱仪 HR EI-TOF-MS

价格：电议
质量范围：不受限制; 实际上1–1000 m/z (受 气相热化学的限制) 质量分辨率：≥6000 m/δm (FWHM) 灵敏度：环境空气中的氙: 90ppb in 1 minute
Kore HR EI TOF MS 高质量分辨率飞行时间质谱
TOF-SIMS 飞行时间二次离子质谱仪

TOF-SIMS 飞行时间二次离子质谱仪

价格：电议
质量分辨率：>2500m/δm (FWHM) 质量范围：>1000 amu，~10,000 amu 质量准确度：±0.005 amu
Kore SurfaceSeer S在TOF SIMS （飞
飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS） KORE SurfaceSeer I

飞行时间二次离子质谱仪（TOF-SIMS） KORE SurfaceSeer I

价格：电议
质量分辨率：>3000m/δm (FWHM) 质量范围：>1000m/z，~10,000 amu 质量准确度：±0.002 amu
Kore SurfaceSeer I是一款高灵敏度 的TOF
蒸发镀膜设备 NTE-4000（M）热蒸发系统

蒸发镀膜设备 NTE-4000（M）热蒸发系统

价格：电议
品牌：那诺-马斯特 型号：NTE-4000（M） 产地：美国
NTE 4000（M）热蒸发系统概述 NANO MASTER
离子束清洗 NIE-3000离子束清洗系统 那诺-马斯特

离子束清洗 NIE-3000离子束清洗系统 那诺-马斯特

价格：电议
产地：美国
NIE 3000离子束清洗系统产品概述 该系统为手动放片取片
离子源清洗 NIE-3500（A）全自动离子束清洗系统

离子源清洗 NIE-3500（A）全自动离子束清洗系统

价格：电议
产地：美国
NIE 3500（A）全自动离子束清洗系统产品概述 该系统为
晶圆清洗机 LSC-5000全自动兆声大基片湿法去胶系统

晶圆清洗机 LSC-5000全自动兆声大基片湿法去胶系统

价格：电议
产地：美国
LSC 5000全自动兆声大基片湿法去胶系统概述 兆声和清洗
晶圆清洗设备 LSC-4000兆声大基片湿法去胶清洗系统

晶圆清洗设备 LSC-4000兆声大基片湿法去胶清洗系统

价格：电议
产地：美国
LSC 4000兆声大基片湿法去胶清洗系统概述 兆声和清洗技
进口全自动清洗机 SWC-5000全自动兆声晶圆清洗机

进口全自动清洗机 SWC-5000全自动兆声晶圆清洗机

价格：电议
产地：美国
SWC 5000全自动兆声晶圆清洗机 兆声和清洗技术的发展
硅片清洗机 SWC-3000兆声辅助光刻胶剥离系统

硅片清洗机 SWC-3000兆声辅助光刻胶剥离系统

价格：电议
产地：美国
SWC 3000兆声辅助光刻胶剥离系统概述 兆声和清洗技术的
晶圆清洗设备 SWC-4000兆声晶圆（掩模版）清洗机

晶圆清洗设备 SWC-4000兆声晶圆（掩模版）清洗机

价格：电议
产地：美国
SWC 4000兆声晶圆（掩模版）清洗机概述 兆声和清洗技术
等离子清洗设备 NPC-3500（M）等离子去胶机（刻蚀机）

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价格：电议
产地：美国
NPC 3500（M）等离子去胶机 刻蚀机)概述 NANO
等离子去胶机 NPC-4000（M）等离子去胶机（刻蚀机）

等离子去胶机 NPC-4000（M）等离子去胶机（刻蚀机）

价格：电议
产地：美国
NPC 4000（M）等离子去胶机（刻蚀机）概述 NANO
磁控溅射镀膜机 NSC-3500（A）全自动磁控溅射系统

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价格：电议
产地：美国
NSC 3500（A）全自动磁控溅射系统概述 带有水冷或者加
薄膜沉积系统 NLD-3500(A)全自动原子层沉积设备

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价格：电议
产地：美国
NLD 3500 A)全自动原子层沉积设备概述 原子层沉积是
ald原子层沉积设备 NLD-4000（M）原子层沉积系统

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价格：电议
产地：美国
NLD 4000（M）原子层沉积系统概述 原子层沉积是一项沉
MOCVD设备 NMC-4000全自动PAMOCVD系统

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价格：电议
产地：美国
NMC 4000（A）全自动PAMOCVD系统概述 NANO
反应离子刻蚀 NRE-3500型RIE-PE刻蚀机

反应离子刻蚀 NRE-3500型RIE-PE刻蚀机

价格：电议
产地：美国
NRE 3500型RIE PE刻蚀机概述 独立式RIE刻蚀P
离子束刻蚀机 NIE-4000（M）IBE离子束刻蚀

离子束刻蚀机 NIE-4000（M）IBE离子束刻蚀

价格：电议
产地：美国
NIE 4000（M）IBE离子束刻蚀产品概述 如铜和金等金
刻蚀设备 NDR-4000（A）全自动DRIE深反应离子刻蚀

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价格：电议
产地：美国
NDR 4000（A）全自动DRIE深反应离子刻蚀概述 全自
ICP刻蚀 NRE-4000（ICPM）ICP刻蚀机 那诺-马斯特

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价格：电议
产地：美国
NRE 4000（ICPM）ICP刻蚀机概述 是带ICP等离
刻蚀机 NRE-4000（M）反应离子刻蚀 那诺-马斯特

刻蚀机 NRE-4000（M）反应离子刻蚀 那诺-马斯特

价格：电议
产地：美国
NRE 4000（M）反应离子刻蚀概述 NRE 4000是一
脉冲激光沉积 NPD-4000（M）PLD脉冲激光沉积系统

脉冲激光沉积 NPD-4000（M）PLD脉冲激光沉积系统

价格：电议
产地：美国
NPD 4000（M）PLD脉冲激光沉积系统机制 PLD的系
PECVD设备 ICPECVD等离子体化学气相沉积系统

PECVD设备 ICPECVD等离子体化学气相沉积系统

价格：电议
产地：美国
NPE 4000（ICPM）ICPECVD等离子体化学气相沉
电子束蒸发镀膜机 NEE-4000（A）全自动电子束蒸发系统

电子束蒸发镀膜机 NEE-4000（A）全自动电子束蒸发系统

价格：电议
产地：美国
NEE 4000（A）全自动电子束蒸发系统概述 NANO M
蒸发镀膜设备 NTE-3500（A）全自动热蒸发系统

蒸发镀膜设备 NTE-3500（A）全自动热蒸发系统

价格：电议
产地：美国
NTE 3500（A）全自动热蒸发系统概述 NANO MAS
光学镀膜设备 NOC-4000进口光学镀膜机 那诺-马斯特

光学镀膜设备 NOC-4000进口光学镀膜机 那诺-马斯特

价格：电议
产地：美国
NOC 4000进口光学镀膜机概述 NANO MASTER
磁控溅射镀膜机 NSC-3500（A）全自动磁控溅射系统 那诺-马斯特

磁控溅射镀膜机 NSC-3500（A）全自动磁控溅射系统 那诺-马斯特

价格：电议
产地：美国
NSC 3500（A）全自动磁控溅射系统概述 带有水冷或者加
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